周五，在荷兰政府宣布对用于制造芯片的先进设备实施额外出口限制后，中国驻荷兰大使馆。 已发表 一封公开信表示强烈反对这一决定并要求撤回。
“我们呼吁荷方从国际贸易规则和维护双边经贸合作的大局出发，立即纠正错误。”
应美国要求，荷兰本周大幅扩大了允许的设备清单，将 DUV 机器包括在内，从而限制了中国的准入。 过去，先进 EUV 机器的使用受到限制，因此限制最常见的 DUV 机器的举措是受限制机器列表的显着扩大。
中国大使馆批评此举是“滥用出口管制措施”，阻碍自由贸易和国际贸易规则。 大使馆进一步强调了对中国和荷兰企业的潜在损害，并警告全球供应链会受到干扰。
他们还指责“某个大国”——美国——操纵盟友对中国进行经济限制。 使馆敦促荷方立即纠正上述做法，并重申中方将坚定维护自身权益，并与荷方合作，促进中荷经贸关系的互利共赢。
荷兰制定的新出口规则将于9月1日生效，要求世界领先的光刻扫描仪制造商ASML获得出口许可证才能向中国公司销售其Twinscan NXT:2000i和高级扫描仪。 据该公司称。 该扫描仪使用深紫外 (DUV) 光刻技术，可以创建芯片 7nm和5nm级工艺技术。
荷兰以国家安全为名对中国半导体行业实施的限制并不像去年10月美国政府实施的那么严格。 这些出口法规要求美国工具和技术获得出口许可证，这些工具和技术可用于制造 14nm/16nm 节点及以下逻辑芯片、非平面晶体管、128 层或以上的 3D NAND 以及 18nm 半 DRAM 存储芯片。 间距或更小。 此外，这些规定要求美国公民必须获得在中国半导体公司工作的许可。
光刻设备是芯片工厂中使用的最复杂的设备之一。 ASML是这个市场无可争议的领导者，中国企业需要几十年的时间才能赶上Twinscan NXT:2000i。 与此同时，如果无法使用应用材料公司、KLA 和 Lam Research 等公司的美国工具，无论如何都无法使用现代技术制造芯片。
因此，荷兰政府的新规不会对中国半导体行业产生严重影响，特别是考虑到中芯国际是唯一一家能够生产14纳米级工艺技术且更薄的芯片的中国公司。 不过，这一消息遭到中国驻荷兰大使馆的强烈反对。
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